單一來源采購公示
一、項目信息
采購人: (略)
項目名稱: (略)單一來源采購雙球差校正透射電鏡等設備項目
擬采購(略):擬采購雙球差校正透射電鏡一台、高分辨場發射透射電鏡一台、通用型場發射透射電鏡一台、超高分辨場發射掃描電鏡一台、通用型場發射掃描電鏡及高分辨聚焦離子束電子束雙束顯微鏡一台,以準確獲取材料在不同尺度水平上的組成、結構與性能等信息
擬采購的貨物或(略):
本項目預算****萬元,其中雙球差校正透射電鏡****萬元、高分辨場發射透射電鏡650萬元、通用型場發射透射電鏡400萬元、超高分辨場發射掃描電鏡350萬元、通用型場發射掃描電鏡200萬元、高分辨聚焦離子束電子束雙束顯微鏡800萬元
采用單一(略):
(略)(以下簡稱“實驗室”)是遼寧省委、省政府按照全新科技體製機製組建的新型研發機構。實驗室致力於材料基礎科學與工程應用研究,建設開放共享的公共技術支撐平台,支撐引領遼寧產業振興。眾所周知,材料在不同特征尺度的組成、結構及性能是材料科學基礎研究與工程應用的共性問題。材料跨尺度行為研究必須依賴於一批精確度高,穩定性好的先進精密儀器設備。
針對(略),本次采購的結構表征類設備主要用於(略)礎研究的國際前沿以及大量微納器件的研究與製造,都離不開對材料在微、納米尺度,乃至原(略)。一方麵,傳統材料與零部件製造的瓶頸問題多數來自於對材料的顯微結構及性能關係的理解不足,難以對材料組織調控提出科學依據和方案。另一方麵,科技發展使得大量微納米器件在生產生活中作用日益突出,有的納米器件尺寸已達到近原子級,對這類高端器件的製造、性能與使役狀況研究非常迫切,也亟需能在這一尺度範圍內進行準確表征的設備。
本項目擬采購的表征設備聚焦於材料從原子尺度到微米尺度範圍(略)子或近原子級材料等表征難點)的結構、成分精確分析。以下就本項目設(略)。
1.雙球差校正透射電子顯微鏡(簡稱雙球差校正電鏡):
實驗室擬開展的材料科學基礎研究及納米材料、器件研究,不僅需要原子級的成像能力,更需要原子級的(略)。雙球差校電鏡(略)。借助球差校正器,透射電鏡可以獲得亞埃級別(~0.6埃)的點分辨率,並最大程度克服了成像離位效應。擬采購的美國賽默飛世爾科技公司的Spetra Ultra(略),其聚光鏡校正器采用了最新專利的第五代球差校正器S-COR,能夠完全校正五階球差C5與五階的六重像散A5,做到了真(略),尤其對低壓分辨率的提高,大大拓展了材料(略),是目前世(略)(50pm@300kV、125pm@30kV)和透射(略)(300kV(略))的原(略)。該設備的聚光鏡和物鏡球差校正技術為獨有技術。
其次,實驗室擬開展的輕合金材料、二維量子材料等基礎探索項目,相關材料對電子束輻照極其敏感,通常需要降低到不同電壓進行成像觀察,但普通雙球差校正電鏡因此麵臨著成像不穩定、能譜信號弱、以及能譜麵分析時間長導致樣品損壞等問題。Spetra Ultr(略),在改變加速(略),相比於傳統電鏡數小時的穩定時間,Spectra Ultra在數分鍾內即可靈活優化高級成像和分析條件,這完全顛覆了傳統電鏡的成像流程,可以快速穩定地調節加速電壓,甚至可以在短時間內完成係列電壓成像與譜學分析。這顯著降低了設備的優化耗時,能夠更方便地研究各金屬、陶瓷等傳統材料與各種新材料在不同能量電子輻照下的表現,更可以突(略)研究。Spectra Ultra配備的超靈敏Ultra-X能譜係統的立體角達到4.4srad,是目前市場上其他設備的兩倍,能夠實現在極低束流下的原子級元素麵分析觀察,從而為各類電子束敏感材料的原子尺度的(略)
此外,針對實驗室項(略)率的需求,如一些輕元素探測(需要約0.8eV的能量分辨率)及價態、配位等化學狀態表征(需要約0.1e(略))等。普通電鏡由於電子束色差問題,其能量分辨率通常在1.5eV以上。Spetra Ul(略)色器,其提供的可達25meV的極限能量分辨率以及粒子源的特定束流與能量散布選擇係統,既能滿足(略),又能更進一步在0.025eV的能量分辨率和超高空間分辨率下進行前所未有的聲子等(略)
綜上所述,國內外僅有賽默飛世爾科技公司生產的Spectra Ultra型號雙球差校正(略)。
2.高分辨場發射透射電鏡:
基於(略)科研需求,例如在納米-亞微米尺度範圍內,材料研究更關注於顯微結構之間的構建方式及其對材料性能的作用。這一尺度範圍內研究主要通過普通場發射透射電鏡(包括高分辨和通用型透射電鏡)等設備實現。考慮到實驗室材料研究的廣泛性,例如某些易受電子束輻照損傷,或同時含有輕重元素的材料(如鋰電池電極材料、分子篩材料)的表征等,這對場發射透射電鏡提出了更高要求。
賽默飛世爾科技公司的Talos F200X G2型號場發射電鏡配備了全新的16分割STEM探頭,能夠進行更為準確的DPC/iDPC分析。(略)場的DPC圖像。而iDPC則是通過二維積分獲得描述樣品投影內勢分布的圖像,直接反映了樣品內部原子的種類和具體位置。由於iDPC幾乎利用了所有的非相幹彈性散射電子,相較於傳統的HAADF與ABF技術,其圖像襯度與信噪比都更好,也能在圖像中直接反映幾乎所有輕重原子的村度;而且iDPC圖像的襯度來源於電子密度在不同分割探頭上的偏差,並不像HAADF與ABF一樣幾乎完全取決於探頭接收的電子密度,所以可以在很低劑量下獲得高質量的STEM圖像,使得它對Li電池材料、分子篩、MOF、COF等電子束敏感材料極為友好。
Talos F200X G2設備同時配備的完全對稱性的能譜探頭布置,完全校正了樣品不同傾轉角造成的能譜數據的波動,配合專用的樣品(略),能做到對不同傾轉角樣品厚度、能譜探頭、樣品杆以及樣品本身起伏對能譜信號遮擋吸收等因素進行非常準確的校正,幫助獲得高空間分辨率、高準確性的能譜定量數據,是各類場發射透射電鏡中進行化學成分定量研究的首選方案。
目前,國內外僅有賽默飛公司生Talos F200X G2場發射透射電鏡能夠滿足實驗室科研需求。 3.通用型場發射透射電鏡:
類似上述設備2中所描述的實驗需求及設備情況,通用型場(略)構表征。賽默飛公司的Talos F200i型號場發射電鏡也配備了全新的16分割STEM探頭,能夠進行更為準確的DPC/iDPC分析,其優勢在此不做贅述。
此外,隨著微納加工技術的提升,材料科學前沿的一個重要方向在於利用各(略)電等)加載並配合高分辨率電鏡觀察,以期了解材料在納米尺度的結構-性能關係,這就對原位加載實驗過程中電鏡的穩定性及對不同類型樣品杆的包容能力有所要求。Talos F200i具(略),極靴間距可以達到5.4mm,支持裝載各種類型的原位樣品杆和三維重構樣品杆。該電鏡采用BOX一體化設計,將幾乎所有的部件都密封到一個隔離罩中,采用人機分離、遠程控製設計,可以大大改進(略)。目前,國內外僅有賽默飛公司生產的Talas F200i透射電子顯微鏡可實現上述功能。
4.超高分辨場發射掃描電鏡
基於(略)項目需求,例如材料表麵(或近表麵)顯微結構的大麵積超高分辨表征(包括高分辨率EBSD分析及高速EDS化學分析)以及實驗室涉及的電子束敏感材料高分辨表征,需要采購一台先進穩定的超高分辨場發射掃描電鏡。目前賽默飛公司的超高分辨場發射掃描電鏡Verios 5 UC,具有獨特的電子槍集成大束流單色器(UC+)專利技術和恒功率透鏡係統,使之具有目前商業掃描電鏡中的最高低電壓成像分辨率和最精細的分析能力,其分辨率達到0.6nm/2-15KV),在顯微尺度上提供了無可替代的精確分析能力。尤其該型號電鏡具備獨特的低電壓高分辨率成像能力(1nm/500V),適合研究電子束敏感材料。因此目前僅有Verios5 UC型號的掃描電鏡滿足實驗室科研需求。
5.通用型場發射掃描電鏡
基於(略)項目需求,例如針對需要廣泛研究的生物材料以及納米顆粒等材料樣品的顯微結構,往往需要在多種真空模式下進行。特別是對於非導電的含水生物材料樣品,其結構表征的真空度低至幾百帕,這對材料結構表征的分辨率提出了新要求,因此需要采購一台多種 真空模式下的具有高分辨率的掃描電鏡。目前賽默飛世爾科技公司是唯一具備環境掃描電鏡技術的廠商,他們生產的Apreo 2S LoVac型號掃描電鏡能夠實現軟件控製真空自由切換,在低真空模式(500Pa)中,水蒸氣可以可控地引入腔室區域,從而中和樣品上的電荷,抑製除氣並放大用於產生圖像的二次電子信號,在低真空下仍然具備高分辨成像能力,分辨率可達1.2nm@15kV。因此,目前該型號電鏡能力在場發射SEM中獨一無二,滿足實驗室科研需求。
6. 高分辨聚焦離子束電子束雙束顯微鏡
基於(略)項目需求,例如針對原位力學研究的微納加工以及對透射電鏡表征及原子探針精細樣品的高通量製備,需要采購一台高效率高分辨率的聚焦離子束電子束雙束顯微鏡。目前賽默飛世爾科技公司是唯一能夠提供全自動TEM製樣的雙束電鏡的廠商,提供最高的樣品製備通量。他們生產的Ga離子Helios 5UX聚焦離子束電子束雙束顯微鏡,將創新的Elstar電子鏡筒和卓越的Phoenix離子鏡筒有機結合,電子槍集成大束流單色器(UC+)專利技術,可實現極高分辨率成像和最高材料襯度(0.7nm@l KV )。同時該型號電鏡配備有全套完善的自動化TEM樣品製備方案和原廠全自動360度可旋轉納米機械手,隻需選擇模板、定義樣品切割位置和定義銅網位置這三步,就可以全自動完成樣品的挖坑、自動納米機械手提取、自動減薄、自動低電壓去非晶層等全部過程,樣品質量和成功率都更高,可大大提升工作效率。該型號電鏡製備一個透射電鏡樣品僅大概40分鍾。因此,目前僅有賽默飛世爾科技公司生產的Helios 5UX電鏡滿足實驗室科研需求。
以上設備國內外僅有美國賽默飛世爾科技公司產品可滿足上述功能,達到實驗室的科研需求,且在功能的客觀定位上必須使用指定的專利、專有技術且使用的專利、專有技術具有不可替代性及獨占性。擬成交供應商((略))是賽默飛世爾科技公司針對本項目授權的唯一代理商。
本次采購符合《關於印發遼寧省省本級單一來源采購管理辦法(試行)的通知》(遼財采[(略)第二章第三條第一款第5項情形的采購要求,專家論證意見表(包括專家的姓名、工作單位和職稱)見附件。
二、擬定供應商信息
名稱: (略)
地址: 中國(上海)自由貿易試驗區正定路530號A5庫區三層2號倉庫
三、公示期限
****年7月6日 至 ****年7月14日(公示期限不得少(略))
四、其他補充事宜:
五、聯係方式
1.采購人
聯 係 人: (略)
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聯係電話: (略)
2.財政部門
聯 係 人: (略)
聯係地址: (略)
聯係電話: (略)
3.采購(略)(如有)
聯 係 人:
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六、附件